Photosensitive element, method of forming resist pattern with the same, and process for producing printed wiring board

WO2006009076 Art A1 26. Januar 2006

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006009076
Aktenzeichen: EP05765645
Anmeldetag: 14. Juli 2005
Veröffentlichung: 26. Januar 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08F299/02G03F7/004G03F7/027G03F7/031G03F7/033H05K3/06H05K3/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von