Plasma processing device and method, and flat panel display device manufacturing method

WO2006009281 Art A1 26. Januar 2006

Anmelder: National University Corporation Tohoku Unversity, TOKYO ELECTRON LIMITED, Goto, Naohisa 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006009281
Aktenzeichen: EP05761716
Anmeldetag: 25. Juli 2005
Veröffentlichung: 26. Januar 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46C23C16/511

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: National University Corporation Tohoku Unversity
TOKYO ELECTRON LIMITED
Goto, Naohisa
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von