Photosensitive Resin Composition Having A High Refractive Index

WO2006009526 Art A1 26. Januar 2006

Anmelder: CORNELL RESEARCH FOUNDATION, INC., Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006009526
Aktenzeichen: EP04753449
Anmeldetag: 17. Juni 2004
Veröffentlichung: 26. Januar 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03C1/73G03F7/038G03F7/20G03F7/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: CORNELL RESEARCH FOUNDATION, INC.
Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇺🇸 USA

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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