Deposition apparatus for providing uniform low-k dielectric

WO2006012048 Art A2 2. Februar 2006

Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006012048
Aktenzeichen: EP05762230
Anmeldetag: 16. Juni 2005
Veröffentlichung: 2. Februar 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/50C23C16/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Intel Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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