Nitride semiconductor device and method for fabricating same

WO2006013698 Art A1 9. Februar 2006

Anmelder: NEC Corporation, NEC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006013698
Aktenzeichen: EP05758324
Anmeldetag: 8. Juli 2005
Veröffentlichung: 9. Februar 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01S5/323H01S5/22H01L33/00H01L29/778

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: NEC Corporation
NEC CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NEC

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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