Method of manufacturing polishing carrier and silicon substrate for magnetic recording medium, and silicon substrate for magnetic recording medium

WO2006013996 Art A1 9. Februar 2006

Anmelder: SHOWA DENKO K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006013996
Aktenzeichen: EP05768393
Anmeldetag: 1. August 2005
Veröffentlichung: 9. Februar 2006
Rechtsraum: WO
IPC: B24B37/04

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Anmelder

Firma: SHOWA DENKO K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

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Fachgebiete

Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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