Cleaning composition and method for removal of polysilicate residue
WO2006014161
Art A1
9. Februar 2006
Anmelder: Rhodia, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006014161
- Aktenzeichen
- EP04756648
- Anmeldetag
- 1. Juli 2004
- Veröffentlichung
- 9. Februar 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C11D1/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Rhodia, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇫🇷
Rhodia
Französisches Spezialchemieunternehmen, das Feinchemikalien und Polymere herstellt und seit der Übernahme 2011 zum belgischen Solvay-Konzern gehört.
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