Pulse thermal processing of functional materials using directed plasma arc

WO2006015328 Art A2 9. Februar 2006

Anmelder: UT-Battelle, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006015328
Aktenzeichen: EP05778105
Anmeldetag: 1. August 2005
Veröffentlichung: 9. Februar 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01J61/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: UT-Battelle, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 UT-Battelle

UT-Battelle ist der Betreiber des Oak Ridge National Laboratory in den USA, ein Gemeinschaftsunternehmen der University of Tennessee und des Battelle Memorial Institute. Das Patentportfolio deckt breit Halbleiterbauelemente, Mess- und Prüftechnik sowie Metallurgie und Werkstoffe ab. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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