Silicon substrate for magnetic recording medium, method of manufacturing the silicon substrate, and magnetic recording medium
WO2006019125
Art A1
23. Februar 2006
Anmelder: SHOWA DENKO K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006019125
- Aktenzeichen
- EP05780338
- Anmeldetag
- 11. August 2005
- Veröffentlichung
- 23. Februar 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G11B5/73G11B5/84
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHOWA DENKO K.K.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Showa Denko
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.
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