Method of manufacturing silicon substrates for magnetic recording medium, silicon substrate for magnetic recording medium, magentic recording medium, and magnetic recording apparatus

WO2006019170 Art A1 23. Februar 2006

Anmelder: SHOWA DENKO K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006019170
Aktenzeichen: EP05772833
Anmeldetag: 16. August 2005
Veröffentlichung: 23. Februar 2006
Rechtsraum: WO
IPC: B24B29/00B24B9/00B24B5/06G11B5/84

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHOWA DENKO K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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