Optisches System, N[mlich Objektiv oder Beleuchtungseinrichtung einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage

WO2006021540 Art A2 2. März 2006

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006021540
Aktenzeichen: EP05775904
Anmeldetag: 18. August 2005
Veröffentlichung: 2. März 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B5/18G02B27/00G02B27/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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