Cluster-free amorphous silicon film, process for producing the same and apparatus therefor

WO2006022179 Art A1 2. März 2006

Anmelder: Kyushu University, National University Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2006022179
Aktenzeichen
EP05780365
Anmeldetag
17. August 2005
Veröffentlichung
2. März 2006
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/205H01L31/04C23C16/24C01B33/027
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Kyushu University, National University Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Kyushu University

Kyushu University ist eine staatliche Universität in Fukuoka, Japan, mit Forschungsschwerpunkten in Natur- und Ingenieurwissenschaften.

878 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen