Raw material liquid for metal organic chemical vapor deposition and method for producing hf-si containing complex oxide film using such raw material liquid

WO2006025515 Art A1 9. März 2006

Anmelder: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006025515
Aktenzeichen: EP05776957
Anmeldetag: 2. September 2005
Veröffentlichung: 9. März 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/40H01L21/316

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von