Polishing slurry, production method of glass substrate for information recording medium and production method of information recording medium
WO2006025539
Art A1
9. März 2006
Anmelder: SHOWA DENKO K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006025539
- Aktenzeichen
- EP05777071
- Anmeldetag
- 29. August 2005
- Veröffentlichung
- 9. März 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09K3/14B24B37/00C03C19/00G11B5/73G11B5/84
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHOWA DENKO K.K.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Showa Denko
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.
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