Method and system for etching a film stack

WO2006025942 Art A1 9. März 2006

Anmelder: Tokyo Electron Ltd., International Business Machines Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006025942
Aktenzeichen: EP05768715
Anmeldetag: 30. Juni 2005
Veröffentlichung: 9. März 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3213H01L21/311H01L21/033H01L21/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Ltd.
International Business Machines Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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