Method and system for etching a gate stack
WO2006025944
Art A1
9. März 2006
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, International Business Machines Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006025944
- Aktenzeichen
- EP05769141
- Anmeldetag
- 30. Juni 2005
- Veröffentlichung
- 9. März 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/311H01L21/3213
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOKYO ELECTRON LIMITED
International Business Machines Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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🇺🇸
IBM
US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.
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