Detoxication method and equipment for use in carrying out said method

WO2006027889 Art A1 16. März 2006

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006027889
Aktenzeichen: EP05765496
Anmeldetag: 6. Juli 2005
Veröffentlichung: 16. März 2006
Rechtsraum: WO
IPC: B01D53/68B01D53/77B01D53/40

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

4.655 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von