Using different gate dielectrics with nmos and pmos transistors of a complementary metal oxide semiconductor integrated circuit

WO2006028577 Art A2 16. März 2006

Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006028577
Aktenzeichen: EP05806949
Anmeldetag: 15. Juli 2005
Veröffentlichung: 16. März 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/8238

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Intel Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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