Controlling Critical Dimensions Of Structures Formed On A Wafer in Semiconductor Processing
WO2006028951
Art A2
16. März 2006
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006028951
- Aktenzeichen
- EP05793518
- Anmeldetag
- 31. August 2005
- Veröffentlichung
- 16. März 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03C5/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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