Halbleiterbauelement sowie Zugehöriges Herstellungsverfahren
WO2006029956
Art A1
23. März 2006
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006029956
- Aktenzeichen
- EP05779306
- Anmeldetag
- 25. August 2005
- Veröffentlichung
- 23. März 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/336H01L29/49H01L21/265
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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