Multi-station rotary machine for polishing wafers of semiconductor electronic components
WO2006032622
Art A1
30. März 2006
Anmelder: STMicroelectronics Srl 🇮🇹
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006032622
- Aktenzeichen
- EP05796974
- Anmeldetag
- 14. September 2005
- Veröffentlichung
- 30. März 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B24B53/007B24B37/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- STMicroelectronics Srl
- Land
- 🇮🇹 Italien
🇨🇭
STMicroelectronics International
Schweizer Gesellschaft des Halbleiterkonzerns STMicroelectronics, die Chips und Sensoren für Automobiltechnik, Industrie und Unterhaltungselektronik entwickelt.
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