Reflective mask, reflective mask manufacturing method and exposure apparatus

WO2006033442 Art A1 30. März 2006

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006033442
Aktenzeichen: EP05787609
Anmeldetag: 20. September 2005
Veröffentlichung: 30. März 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/16G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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