Method for producing high-purity liquid chlorine
WO2006035571
Art A1
6. April 2006
Anmelder: SHOWA DENKO K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006035571
- Aktenzeichen
- EP05777061
- Anmeldetag
- 29. August 2005
- Veröffentlichung
- 6. April 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C01B7/075
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHOWA DENKO K.K.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Showa Denko
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.
3.077 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.