Silicon substrate processing method

WO2006035893 Art A1 6. April 2006

Anmelder: HAMAMATSU PHOTONICS K.K., Nagata, Seiichi 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006035893
Aktenzeichen: EP05788181
Anmeldetag: 29. September 2005
Veröffentlichung: 6. April 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G02B6/13

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
Nagata, Seiichi
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hamamatsu Photonics

Japanisches Unternehmen für Photonik mit Sitz in Hamamatsu, spezialisiert auf Photodetektoren, Bildsensoren, Laser und optische Messtechnik für Wissenschaft und Industrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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