Underfill Material To Reduce Ball Limiting Metallurgy Delamination And Cracking Potential in Semiconductor Devices
WO2006036505
Art A1
6. April 2006
Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006036505
- Aktenzeichen
- EP05795140
- Anmeldetag
- 12. September 2005
- Veröffentlichung
- 6. April 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08K3/36C08K9/04H01L23/29H01L21/56
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Intel Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Intel
US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.
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