Methods and apparatus for tuning a set of plasma processing steps

WO2006036753 Art A2 6. April 2006

Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006036753
Aktenzeichen: EP05798268
Anmeldetag: 21. September 2005
Veröffentlichung: 6. April 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C23F1/00B44C1/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Lam Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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