Methods and apparatus for monitoring a process in a plasma processing system by measuring impedance

WO2006036820 Art A2 6. April 2006

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006036820
Aktenzeichen: EP05823327
Anmeldetag: 23. September 2005
Veröffentlichung: 6. April 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C23F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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