Verfahren zum Herstellen einer Schicht aus einem Dotierten Halbleitermaterial

WO2006037300 Art A2 13. April 2006

Anmelder: Novaled AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006037300
Aktenzeichen: EP05805790
Anmeldetag: 4. Oktober 2005
Veröffentlichung: 13. April 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L51/52

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Novaled AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Novaled

Deutsches Unternehmen für OLED-Technologie mit Sitz in Dresden. Novaled entwickelt Materialien und Technologien zur Verbesserung von organischen Leuchtdioden für Displays und Beleuchtung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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