Photosensitive element, method of forming resist pattern therewith, and process for producing printed wiring board

WO2006038279 Art A1 13. April 2006

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006038279
Aktenzeichen: EP04792023
Anmeldetag: 4. Oktober 2004
Veröffentlichung: 13. April 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/031G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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