Method for manufacturing target material for sputtering target

WO2006038538 Art A1 13. April 2006

Anmelder: MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006038538
Aktenzeichen: EP05788228
Anmeldetag: 29. September 2005
Veröffentlichung: 13. April 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C04B35/64C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsui Mining & Smelting

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Nichteisenmetallen sowie der Herstellung von Materialien für die Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

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