Plasma processing system for treating a substrate

WO2006038976 Art A2 13. April 2006

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2006038976
Aktenzeichen
EP05783119
Anmeldetag
10. August 2005
Veröffentlichung
13. April 2006
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/306
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
TOKYO ELECTRON LIMITED
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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