A method for supercritical carbon dioxide processing of fluoro-carbon films

WO2006039026 Art A1 13. April 2006

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006039026
Aktenzeichen: EP05811835
Anmeldetag: 30. August 2005
Veröffentlichung: 13. April 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3105H01L21/312H01L21/768H01L21/3205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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