Wafer edge wheel with drying function

WO2006039127 Art A2 13. April 2006

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006039127
Aktenzeichen: EP05797603
Anmeldetag: 16. September 2005
Veröffentlichung: 13. April 2006
Rechtsraum: WO
IPC: F26B7/00F26B13/00F26B17/24F26B5/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik

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