Method and system for contamination detection and monitoring in a lithographic exposure tool and operating method for the same under controlled atmospheric conditions
WO2006039161
Art A2
13. April 2006
Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006039161
- Aktenzeichen
- EP05799766
- Anmeldetag
- 21. September 2005
- Veröffentlichung
- 13. April 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Micro Devices
US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.
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Fachgebiete
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