Corrosion resistant apparatus for control of a multi-zone nozzle in a plasma processing system
WO2006039211
Art A2
13. April 2006
Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006039211
- Aktenzeichen
- EP05799867
- Anmeldetag
- 23. September 2005
- Veröffentlichung
- 13. April 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/00C23C14/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Lam Research Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
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