Method and system for injecting chemistry into a supercritical fluid
WO2006039321
Art A1
13. April 2006
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006039321
- Aktenzeichen
- EP05799691
- Anmeldetag
- 27. September 2005
- Veröffentlichung
- 13. April 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/00B01D11/02B01J3/00B08B7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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