Application apparatus having cleaning mechanism, method for cleaning application apparatus and cleaning mechanism for use in application apparatus

WO2006040846 Art A1 20. April 2006

Anmelder: Toppan Printing Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006040846
Aktenzeichen: EP05719394
Anmeldetag: 22. Februar 2005
Veröffentlichung: 20. April 2006
Rechtsraum: WO
IPC: B05C11/10B05C5/02B05D3/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Toppan Printing Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toppan Printing

Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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