Methods and apparatus for monitoring a process in a plasma processing system by measuring a plasma frequency

WO2006041656 Art A2 20. April 2006

Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006041656
Aktenzeichen: EP05805641
Anmeldetag: 23. September 2005
Veröffentlichung: 20. April 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C23F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Lam Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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