Photosensitive element, resist pattern forming method and method for manufacturing printed circuit board

WO2006043314 Art A1 27. April 2006

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006043314
Aktenzeichen: EP04792602
Anmeldetag: 19. Oktober 2004
Veröffentlichung: 27. April 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/031G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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