Semiconductor device and manufacturing method thereof

WO2006043329 Art A1 27. April 2006

Anmelder: Fujitsu Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006043329
Aktenzeichen: EP04792874
Anmeldetag: 22. Oktober 2004
Veröffentlichung: 27. April 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3205H01L29/786H01L29/06B82B3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujitsu Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujitsu

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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