Radiation-Sensitive Resin Composition

WO2006043597 Art A1 27. April 2006

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006043597
Aktenzeichen: EP05795394
Anmeldetag: 19. Oktober 2005
Veröffentlichung: 27. April 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von