Probe and method of manufacturing the same

WO2006043645 Art A1 27. April 2006

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006043645
Aktenzeichen: EP05795887
Anmeldetag: 20. Oktober 2005
Veröffentlichung: 27. April 2006
Rechtsraum: WO
IPC: G01R1/067

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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