Conditioner disk for use in chemical mechanical polishing

WO2006043928 Art A1 27. April 2006

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006043928
Aktenzeichen: EP04795160
Anmeldetag: 13. Oktober 2004
Veröffentlichung: 27. April 2006
Rechtsraum: WO
IPC: B24B1/00B24B21/18B24B33/00B24B47/26B24B55/00B24B5/00B24B7/00B24B7/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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