Heat transfer system for improved semiconductor processing uniformity

WO2006044198 Art A2 27. April 2006

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006044198
Aktenzeichen: EP05802676
Anmeldetag: 6. Oktober 2005
Veröffentlichung: 27. April 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/00C23F1/00C03C15/00B44C1/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von