Magnetic-Field Concentration in Inductively Coupled Plasma Reactors

WO2006044419 Art A2 27. April 2006

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006044419
Aktenzeichen: EP05810488
Anmeldetag: 12. Oktober 2005
Veröffentlichung: 27. April 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/32C23C16/507

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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