Film forming method, semiconductor device manufacturing method, semiconductor device, program and recording medium

WO2006046386 Art A1 4. Mai 2006

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006046386
Aktenzeichen: EP05788125
Anmeldetag: 3. Oktober 2005
Veröffentlichung: 4. Mai 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3205H01L23/52C23C16/18C23C16/50H01L21/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von