High resolution pattern transfer method

WO2006046475 Art A1 4. Mai 2006

Anmelder: TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006046475
Aktenzeichen: EP05795128
Anmeldetag: 14. Oktober 2005
Veröffentlichung: 4. Mai 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Institute of Technology

Japanische technische Universität in Tokio mit Schwerpunkt auf Natur- und Ingenieurwissenschaften. Seit 2024 firmiert sie im Zuge einer Fusion als Institute of Science Tokyo.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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