Thiol compound, and photosensitive composition and black matrix resist composition using the compound

WO2006046733 Art A1 4. Mai 2006

Anmelder: SHOWA DENKO K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006046733
Aktenzeichen: EP05799198
Anmeldetag: 25. Oktober 2005
Veröffentlichung: 4. Mai 2006
Rechtsraum: WO
IPC: C07C323/52G03F7/00G03F7/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHOWA DENKO K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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