Mask blank manufacturing method
WO2006049240
Art A1
11. Mai 2006
Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2006049240
- Aktenzeichen
- EP05799971
- Anmeldetag
- 4. November 2005
- Veröffentlichung
- 11. Mai 2006
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/14G03F1/08H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HOYA CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hoya
Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.
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Vertreten von
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