Liquid treatment apparatus and method for operating same

WO2006049302 Art A1 11. Mai 2006

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2006049302
Aktenzeichen: EP05803001
Anmeldetag: 8. November 2005
Veröffentlichung: 11. Mai 2006
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304H01L21/027H01L21/306

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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